三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑，三氟化氮主要用于氟化劑、燃燒劑、推進劑中的氧化劑、高溫金屬的切割油等，在半導體行業應用廣泛。然而早些年，相關產品被國外壟斷，市場定價權掌握在國外廠商手中。



為破解壟斷危機、搶抓市場機遇，我國于2009年成功開發出高純三氟化氮。該產品被列入國家“重點新產品”及“火炬計劃”，應用于國內大部分的半導體、液晶、太陽能行業，并出口美國、日本、法國、德國等國家。



目前我國已建成國內最大的三氟化氮等產品研發生產基地。其中三氟化氮國內市場覆蓋率超過95%，國際市場覆蓋率達30%；近兩年，年均增速達到30%，力爭到2020年，實現年產高純三氟化氮氣體12000噸。



我國電子氣體目前還屬于電子材料發展的短板，需著力發展。目前高純三氟化氮氣體產量在可以滿足國內需求，隨著半導體電子行業的發展，高純三氟化氮氣體產量是否還能滿足行業發展還未可知。



因此，國內高純三氟化氮產量雖然有所突破，但是否真的能降低市場價格還是個問題！